新一代光栅尺寸测量方案，衍射三维形貌仪新品上市！

发布时间：2023-05-31 18:13:53 浏览次数：4902 次

优可测隆重推出光栅尺寸全新一代测量解决方案——衍射三维形貌仪NM-300系列，为光通讯硅波导、AR/VR结构光栅、生物芯片、NAND、DRAM、光学薄膜等各种微纳光栅结构，提供光栅尺寸高效精准、易操作、多层结构测量解决方案。可快速精准提取出样品光栅的占空比、厚度与侧壁角等结构参数。

— —

和传统的光栅测量方法比对

微信图片_20230531180336.png

微信图片_20230531180341.png

— —

衍射三维形貌仪NM-300系列特点

高精度

三维形貌测量重复性(XYZ) ＜0.5nm

膜厚测量重复性0.01nm

可测CD尺寸≥20nm

高效率

可批量测量，单次测量时间＜20s

可测多层结构

微信图片_20230531180347.png

可测多样式形貌

微信图片_20230531180351.png

提供客制化

微信图片_20230531180355.png

可根据客户不同光栅类型和场景提供客制化

— —

如果您对NM-300系列感兴趣，欢迎拨打400-0803885服务电话。

400 080 3885